二次元影像測量儀光柵尺作為重要的分光器件，其性能直接影響整個系統性能，為更好協助用戶選擇，在此做一簡要介紹。

1、二次元影像測量儀光柵尺分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等；

2、刻劃(hua)光柵是用鉆石刻刀在涂有金屬的(de)表面(mian)上機械刻劃(hua)而成；

3、復(fu)制光(guang)柵(zha)是用母光(guang)柵(zha)復(fu)制而(er)成；

4、典型刻(ke)劃光(guang)柵(zha)和復制光(guang)柵(zha)的刻(ke)槽(cao)是三角(jiao)形；

5、全息光(guang)柵是由激光(guang)干涉條紋光(guang)刻(ke)而成，全息通常包括正弦刻(ke)槽，刻(ke)劃光(guang)柵具有(you)衍射效率高的(de)特(te)點(dian)，全息光(guang)柵光(guang)譜范(fan)圍廣，雜(za)散(san)光(guang)低，且可作到高光(guang)譜分辨率。

光柵方程

反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長，在大多數方向消失，只在一定的有限方向出現，這些方向確定了衍射級次。

光(guang)柵(zha)刻槽垂直輻(fu)射(she)入射(she)平(ping)面，輻(fu)射(she)與光(guang)柵(zha)法線入射(she)角為α，衍射角為β，衍射級次為m，d為刻槽間距，在下述(shu)條件下得到干涉(she)的極大(da)值：

mλ=d（sinα+sinβ）

定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半，即φ=(α-β)/2；θ為(wei)相(xiang)對與零級光譜(pu)位置的光柵角，即θ=(α+β)/2,得到更方(fang)(fang)便的光柵方(fang)(fang)程：

mλ=2dcosφsinθ

從該光柵方程可看出：

對一給定(ding)方向β，可以有幾個波長與級次m相對應λ滿(man)足光(guang)柵方(fang)程。比如600nm的(de)一級輻射和(he)300nm的二級輻射、200nm的(de)三級(ji)輻射有(you)相(xiang)同的(de)衍射角(jiao)。

衍(yan)射級(ji)次(ci)m可(ke)正可(ke)負。

對相(xiang)同(tong)級次的(de)多波(bo)長在不同(tong)的(de)β分布開。

含多波長的輻射方向固定(ding)，旋轉光柵，改變α，則在α+β不(bu)變的方向得到(dao)不(bu)同的波長。

如何選擇二次元影像測量儀光柵尺

選擇光柵尺主要考慮如下因素：

刻槽密度(du)G=1/D，D是(shi)考(kao)槽間(jian)隔，單位為MM。

閃耀波長

閃耀波長為光柵尺最大(da)衍射效率點，因此(ci)選擇(ze)(ze)光柵時應盡量選擇(ze)(ze)閃耀波長在(zai)實際應用在(zai)可見光范圍，可選擇(ze)(ze)閃耀波長為500nm。