隨(sui)著改革(ge)開放，中(zhong)(zhong)國(guo)的(de)(de)(de)電(dian)子業(ye)獲(huo)得(de)了(le)(le)飛速發展(zhan)，電(dian)子工(gong)業(ye)的(de)(de)(de)各個領域均進(jin)(jin)(jin)行了(le)(le)技術(shu)革(ge)新和(he)技術(shu)引(yin)入(ru)，并(bing)逐(zhu)漸形成(cheng)系統和(he)理論。在 sAI - f 技術(shu)這個領域也獲(huo)得(de)了(le)(le)較大發展(zhan)，甚至有(you)的(de)(de)(de)學院已經(jing)建立(li)了(le)(le)關(guan)(guan)于 sN . ' l ' f 技術(shu)的(de)(de)(de)專業(ye)。清洗(xi)是(shi)(shi) sN1 ' f 工(gong)藝的(de)(de)(de)一(yi)個重要(yao)組成(cheng)部(bu)分，而對(dui)(dui)清洗(xi)后殘存的(de)(de)(de)離子污染物的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)試(shi)則是(shi)(shi)對(dui)(dui)清洗(xi)工(gong)藝進(jin)(jin)(jin)行控制和(he)監測(ce)(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)一(yi)個重要(yao)組成(cheng)部(bu)分。環(huan)境(jing)(jing)不僅關(guan)(guan)系到人類的(de)(de)(de)生活，并(bing)且對(dui)(dui)電(dian)子產(chan)(chan)品的(de)(de)(de)使用(yong)壽命(ming)和(he)穩(wen)定性(xing)產(chan)(chan)生重要(yao)影(ying)響(xiang)。在二次世(shi)界大戰期間，在戰斗中(zhong)(zhong)使用(yong)的(de)(de)(de)電(dian)信器材(cai)的(de)(de)(de)損壞(huai)有(you) 5 ( ) “是(shi)(shi)由于環(huan)境(jing)(jing)氣(qi)候引(yin)起的(de)(de)(de)腐蝕和(he)霉變等造成(cheng)的(de)(de)(de)，而存放在庫房中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)產(chan)(chan)品的(de)(de)(de)損壞(huai)率高達以(yi)）嘆。由此，涂敷(fu)保護進(jin)(jin)(jin)入(ru)了(le)(le)電(dian)子業(ye)。而涂層(ceng)是(shi)(shi)對(dui)(dui)外部(bu)環(huan)境(jing)(jing)的(de)(de)(de)影(ying)響(xiang)的(de)(de)(de)阻隔，而在組裝(zhuang)產(chan)(chan)品生產(chan)(chan)過程(cheng)中(zhong)(zhong)弓｝入(ru)的(de)(de)(de)微粒污垢、離子性(xing)導電(dian)污垢和(he)有(you)腐蝕作(zuo)用(yong)的(de)(de)(de)污垢，如果未加清洗(xi)，則涂層(ceng)失(shi)去了(le)(le)保護的(de)(de)(de)意義，因為其(qi)內部(bu)已經(jing)受到污染。而清洗(xi)后一(yi)定要(yao)有(you)一(yi)種手(shou)段能夠對(dui)(dui)其(qi)進(jin)(jin)(jin)行監控，即測(ce)(ce)(ce)(ce)試(shi)電(dian)路板是(shi)(shi)否已經(jing)達到了(le)(le)清潔標準。這就是(shi)(shi)要(yao)對(dui)(dui)離子污染進(jin)(jin)(jin)行測(ce)(ce)(ce)(ce)試(shi)的(de)(de)(de)原因。美國(guo)最早(zao)對(dui)(dui)此進(jin)(jin)(jin)行了(le)(le)研究，并(bing)制定了(le)(le)相(xiang)關(guan)(guan)標準。
什么是(shi)(shi)離(li)(li)子污(wu)(wu)染(ran)測試儀？離(li)(li)子污(wu)(wu)染(ran)物的(de)(de)(de)特色(se)是(shi)(shi)可(ke)溶(rong)于水，并且通(tong)常(chang)為有(you)機或(huo)無(wu)機酸(suan)和(he)鹽。電子部(bu)件(jian)(jian)和(he)元器件(jian)(jian)經常(chang)暴露于波峰焊、熱空(kong)氣環境、電鍍、刻蝕(shi)和(he)化(hua)學清潔的(de)(de)(de)等(deng)工藝(yi)過(guo)程中的(de)(de)(de)污(wu)(wu)染(ran)物。離(li)(li)子污(wu)(wu)染(ran)鋇(bei) l 試是(shi)(shi)用超純(chun)凈的(de)(de)(de)萃(cui)取溶(rong)液(ye)從電子部(bu)件(jian)(jian)上移去(qu)工藝(yi)過(guo)程中留(liu)下的(de)(de)(de)殘余物。對(dui)清潔結果的(de)(de)(de)鋇(bei) l 量(liang)是(shi)(shi)以傳(chuan)導(dao)率或(huo)電阻(zu)系(xi)數(shu)(shu)為評判依據，把鋇(bei) l 量(liang)值(zhi)與標(biao)準比較。在(zai)此(ci)，標(biao)準是(shi)(shi)在(zai)純(chun)的(de)(de)(de) 75 " lP 刀 25 " 水溶(rong)液(ye)中鋇(bei) l 量(liang)氯(lv)化(hua)鈉的(de)(de)(de)傳(chuan)導(dao)率或(huo)電阻(zu)系(xi)數(shu)(shu)。依據決定需要給(gei)出此(ci)讀(du)數(shu)(shu)的(de)(de)(de) NaCI 的(de)(de)(de)數(shu)(shu)量(liang)的(de)(de)(de)方(fang)式，測試結果可(ke)以表示(shi)為一個(ge)傳(chuan)導(dao)率或(huo)電阻(zu)系(xi)數(shu)(shu)的(de)(de)(de)函數(shu)(shu)，或(huo)更好地表示(shi)為在(zai)每(mei)單位樣(yang)品面(mian)積上等(deng)量(liang)的(de)(de)(de)氯(lv)化(hua)鈉。一個(ge)樣(yang)品測試讀(du)數(shu)(shu)為 4 . 5 微克 NaCI ／平方(fang)厘(li)米，意謂著在(zai)測試結束時(shi)傳(chuan)導(dao)率或(huo)電阻(zu)系(xi)數(shu)(shu)等(deng)同于 4 . 5 微克 NaC ！給(gei)出的(de)(de)(de)數(shu)(shu)據而(er)不是(shi)(shi)實際(ji)鋇(bei) l 到了 4 . 5 微克 Nacl 。
離子污染測(ce)(ce)試儀的(de)(de)(de)(de)起(qi)源(yuan) l 試的(de)(de)(de)(de)起(qi)源(yuan)最早記載的(de)(de)(de)(de)污染萃取測(ce)(ce)量方法是由(you)貝爾實驗室的(de)(de)(de)(de)’ f ．卜(bu) Lgan 提出的(de)(de)(de)(de)。最初(chu)測(ce)(ce)試使(shi)(shi)用(yong) l ( x ) % 去離子水。印第安(an)那波利斯(si)的(de)(de)(de)(de)海軍航空(kong)電(dian)子中心進(jin)行(xing)了(le)改進(jin)，他們使(shi)(shi)用(yong) IP . , v 水的(de)(de)(de)(de)混和(he)物來提高去除(chu)松香殘余物。此(ci)(ci)方法需要一(yi)(yi)個人手動噴淋(lin)(lin)醇(chun) l 水溶液到鋇 l 試樣(yang)(yang)品上面。一(yi)(yi)旦噴淋(lin)(lin)和(he)收集的(de)(de)(de)(de)數量達(da)到川 nll 每平方英寸測(ce)(ce)試樣(yang)(yang)品的(de)(de)(de)(de)表面積，則停(ting)止嘖(ze)琳并且側量溶液的(de)(de)(de)(de)電(dian)阻值(zhi)(zhi)。此(ci)(ci)方式成為最原始的(de)(de)(de)(de)“測(ce)(ce)量方法” ( M IL 一(yi)(yi) P 一(yi)(yi) 288 （為）。由(you)于通過(guo)／失敗限度，需要萃取的(de)(de)(de)(de)溶液必須有最小 2 入 p 的(de)(de)(de)(de)電(dian)阻值(zhi)(zhi)。， \ l 油(you) a mctal 的(de)(de)(de)(de) Jack Br 曲、博士獨立開發(fa)了(le)以“動態”方式著名的(de)(de)(de)(de)改進(jin)技術(shu)。后來的(de)(de)(de)(de)影響使(shi)(shi)這些鋇 l 試技術(shu)形成了(le)兩種(zhong)主要類型的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)試儀器(qi)一(yi)(yi)一(yi)(yi)靜態和(he)動態。
儀器用途：用于(yu)PCB電路(lu)板清洗工序(xu)前后離子污(wu)染程度(du)的(de)測試
儀器特點：1.結構(gou)采(cai)用(yong)全封閉循環(huan)系(xi)統2.測試方法(fa)：靜態/動態一體。3.可根據客(ke)戶(hu)要求容量定(ding)制
