研(yan)磨(mo)(mo)液應(ying)該(gai)不(bu)會陌生吧，在化(hua)(hua)(hua)(hua)學機械研(yan)磨(mo)(mo)工藝中可扮演(yan)了一個(ge)很重要很重要的(de)(de)位置，研(yan)磨(mo)(mo)液中的(de)(de)研(yan)磨(mo)(mo)顆粒會機械化(hua)(hua)(hua)(hua)地摩擦晶圓的(de)(de)表(biao)面(mian)而且移除(chu)表(biao)面(mian)的(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)。研(yan)磨(mo)(mo)液中的(de)(de)化(hua)(hua)(hua)(hua)學物(wu)質會與表(biao)面(mian)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)或者研(yan)磨(mo)(mo)形成產生化(hua)(hua)(hua)(hua)學反應(ying)將其薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)溶解或者是(shi)形成化(hua)(hua)(hua)(hua)合物(wu)，zui后這(zhe)個(ge)化(hua)(hua)(hua)(hua)合物(wu)會被研(yan)磨(mo)(mo)顆粒移除(chu)掉。研(yan)磨(mo)(mo)液中的(de)(de)添加物(wu)可以讓(rang)我們達到(dao)要求的(de)(de)研(yan)磨(mo)(mo)效果。

研(yan)磨(mo)液通常是指帶有研(yan)磨(mo)作(zuo)用的(de)(de)研(yan)磨(mo)顆粒和(he)化學(xue)添加物組成的(de)(de)水性化學(xue)溶液。不同的(de)(de)研(yan)磨(mo)制程需要不同的(de)(de)研(yan)磨(mo)液，因此研(yan)磨(mo)液通常會針(zhen)對某一種特殊的(de)(de)應用而作(zuo)相(xiang)應的(de)(de)處理和(he)配置(zhi)。

研磨(mo)液(ye)的(de)添加物可以控制PH值，可以影(ying)響(xiang)到(dao)(dao)化(hua)學機(ji)械(xie)研磨(mo)工藝(yi)中的(de)化(hua)學反(fan)應(ying)并協助達到(dao)(dao)zui近的(de)工藝(yi)結果。

研磨液在加工中的主要作用:

1.潤(run)滑作用(yong)，研磨液(ye)中的潤(run)滑耐(nai)高溫耐(nai)高壓能(neng)力能(neng)減少磨粒磨屑與(yu)研磨表面的摩擦(ca)，起到潤(run)滑的作用(yong)。

2.懸(xuan)浮(fu)(fu)作(zuo)用，研磨液能吸附在固定顆(ke)粒表面產生(sheng)足夠(gou)高的位(wei)壘，讓(rang)顆(ke)粒分散(san)開來達到分散(san)懸(xuan)浮(fu)(fu)的特(te)點。

       源興光學雙盤研磨機用于PCB電路板金相分析切片的研磨，拋光，讓切片晶亮透明，偏于分析切面組織和孔位組織結構。 具有：正反轉，速度PLC控制，噪音小等特點。

3.去損作用，堿性和(he)硅發(fa)生化學反應(ying)使后歩工(gong)序(xu)加工(gong)量(liang)變(bian)小，增加出片量(liang)，降低成(cheng)本(ben)。

4.冷卻(que)作用，冷卻(que)性和潤(run)滑(hua)性并用，相互補(bu)充可以獲得(de)優(you)越的使用效果(guo)。

5.清(qing)洗(xi)(xi)作用(yong)，選(xuan)擇適(shi)宜表(biao)面活(huo)性劑和采(cai)用(yong)大的(de)稀(xi)釋(shi)比水溶解，大大的(de)提高(gao)了(le)清(qing)洗(xi)(xi)的(de)效果(guo)，讓(rang)研磨產物不會形成難清(qing)洗(xi)(xi)的(de)表(biao)面吸附。

6.防銹作用，研磨液本身具備的(de)功能。

源興(xing)光(guang)學(xue)-成立于1998年(nian)，歷經20年(nian)發展(zhan)，現主要產品有：線(xian)路(lu)(lu)板(ban)離(li)子污染(ran)測(ce)試儀、全自動3次(ci)(ci)元(yuan)(yuan)、源興(xing)二次(ci)(ci)元(yuan)(yuan)影像測(ce)量(liang)儀、線(xian)路(lu)(lu)板(ban)X光(guang)檢查(cha)機，驗孔機，外觀檢查(cha)機、線(xian)路(lu)(lu)板(ban)線(xian)寬檢測(ce)儀、金(jin)相工具顯微鏡、雙(shuang)盤研磨機、測(ce)量(liang)軟件及LED燈等產品。